مربوط آلات

عام طور پر، ٹرانس میبرن پریشر فرق (ٹی ایم پی) کی پیمائش اس بات کا تعین کرنے کے لیے کی جاتی ہے کہ آیا ڈایافرام آلودہ ہے۔ TMP میں اضافے کی دو وجوہات ہو سکتی ہیں۔

1) جیسے جیسے رد عمل آگے بڑھتا ہے، مرکزی رد عمل کے ٹینک میں فلٹریٹ مسلسل مرتکز ہوتا ہے، اور اس کا ارتکاز بتدریج بڑھتا جاتا ہے تاکہ جھلی کی اندرونی اور بیرونی سطحوں کے درمیان دباؤ کا فرق بتدریج بڑھتا جائے، جس کا مطلب ہے، TMP بڑھتا ہے۔ لیکن اس وقت ڈایافرام ابھی تک آلودہ نہیں ہے، اور ڈایافرام میں اب بھی ایک خاص حد تک پارگمیتا ہے۔

2) فلٹریشن ری ایکشن ایک خاص سطح تک بڑھنے کے بعد، فلٹریٹ میں موجود آلودگی جھلی کو بلاک کرنے کا سبب بنتی ہے۔ اس وقت، جھلی آلودہ ہے اور اسے صاف کرنا ضروری ہے۔

مرتکز محلول کے ارتکاز میں اضافے کی وجہ سے TMP میں اضافے کے امکان کو ختم کرنے کے لیے، جھلی کے بہاؤ کو بغیر کسی تبدیلی کے برقرار رکھا جاتا ہے، جب TMP عام کام کرنے والے 0-30Kpa سے 60Kpa سے زیادہ ہو جاتا ہے، یہ سمجھا جاتا ہے کہ جھلی آلودہ ہے اور اسے صفائی کے لیے ہٹانے کی ضرورت ہے۔

کیونکہ خام پانی کا پی ایچ 7.2 اور 8 کے درمیان ہے۔{3}}، آئنک حالت میں دھاتی آئن پورے علاج کے عمل کے دوران آکسیجن کے ساتھ مسلسل رابطے میں رہتے ہیں اور آکسائیڈ یا ہائیڈرو آکسائیڈ میں آکسائڈائز ہو جاتے ہیں۔ اور سیرامک ​​میمبرین فلٹریشن ٹریٹمنٹ کے بعد، کچے پانی میں ٹھوس آکسائیڈز کی ایک چھوٹی سی تعداد اور فیڈ مائع کو مسلسل مرتکز کر کے نئے آکسائیڈز بنائے جاتے ہیں، جو جھلی کی سطح پر چپک جاتے ہیں یا اصل میں اس کی سطح سے جڑے ذرات سے چپک جاتے ہیں۔ جھلی، جھلی کی آلودگی کا باعث بنتی ہے۔ تاہم، جھلی کی آلودگی میں دھاتی عناصر کا مواد نسبتاً کم ہے، اور اگرچہ کچے پانی کو ٹینکوں اور فلوٹیشن مشینوں جیسے عمل سے صاف کیا جاتا ہے، لیکن اس میں اب بھی بڑی تعداد میں تیل والے مادے موجود ہیں۔ تیل والے مادے زیادہ چپچپا ہوتے ہیں اور ان کا ڈایافرام کی سطح پر رہنا آسان ہوتا ہے جو کہ ڈایافرام کی رکاوٹ اور جھلی کے بہاؤ میں کمی کی بنیادی وجہ ہے۔ سیرامک ​​فلیٹ جھلی کے تیل والے گندے پانی کے عمل میں، اہم آلودگی تیل آلودگی ہیں. تیزابیت والے حالات میں، تیل اور چکنائی ہائیڈرولیسس رد عمل سے گزریں گے، اور پیدا ہونے والے کاربو آکسیلک ایسڈز اور الکوحل اور دیگر چھوٹے سالماتی نامیاتی مادوں کو جھلی کی سطح سے الگ کیا جا سکتا ہے، جس کے نتیجے میں جھلی کا بہاؤ بحال ہو جاتا ہے۔

سیرامک ​​جھلی کی صفائی کے طریقوں کا انتخاب
عام طور پر، آن لائن کیمیائی صفائی فلیٹ جھلی کو صاف کرنے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے. صفائی کا چکر جھلی کی آلودگی پر منحصر ہے۔
صفائی ایجنٹ کی تیاری
A. الکلائن لوشن: {{0}}mg/L سوڈیم ہائپوکلورائٹ اور 1000mg/L سوڈیم ہائیڈرو آکسائیڈ، یا 0.5% سوڈیم ہائپوکلورائٹ محلول الگ الگ تیار کریں (سوڈیم ہائپوکلورائٹ محلول کا ارتکاز ایک جیسا ہے۔ کلورین کی مقدار (خاص طور پر جب جراثیم کش کے طور پر استعمال ہو) کلورین مرکبات کی آکسائڈائزنگ طاقت :)

B. اچار کا محلول: 1000mg/L oxalic acid کا محلول تیار کریں۔ موقع پر صفائی کرتے وقت، صفائی کے حل کی مقدار اوپر کی طرح ہی ہوتی ہے۔

منصوبے کی اصل ضروریات کے مطابق، سائٹ پر کیمیائی صفائی کے دو طریقے اپنائے جا سکتے ہیں۔ پہلا طریقہ کشش ثقل کا انجیکشن ہے، صفائی کا ٹینک جھلی ٹینک کے مائع کی سطح سے اوپر ہے (صفائی کا نظام جھلی کے ٹینک پر ہے)؛ دوسرا طریقہ پمپ لفٹ انجیکشن ہے، اور صفائی کا ٹینک جھلی ٹینک کے مائع کی سطح سے نیچے ہے (صفائی کا نظام زمین پر ہے یا مائع کی سطح سے نیچے ہے)۔

جب سائٹ پر کیمیائی صفائی مسئلہ کو حل نہیں کرسکتی ہے، تو یہ ضروری ہے کہ ماڈیول سے جھلی کے عنصر کو ہٹا دیا جائے اور جھلی کی سطح کو برش یا کم دباؤ والی واٹر گن سے صاف کیا جائے۔ یہ عام طور پر نایاب ہے.

سیرامک ​​ڈایافرام کی سطح پر آلودگیوں میں دھاتی عنصر کی کم مقدار اس بات کی نشاندہی کرتی ہے کہ دھاتی آکسائیڈ اور ہائیڈرو آکسائیڈ سیرامک ​​ڈایافرام کی آلودگی کی بنیادی وجہ نہیں ہیں۔ تیل اور دیگر نامیاتی مادے جھلیوں میں رکاوٹ اور جھلی کے بہاؤ میں کمی کی بنیادی وجہ ہیں۔

آلودہ سیرامک ​​جھلی کے علاج کے لیے ہائیڈرولک واشنگ اور برش کی صفائی جیسے جسمانی طریقوں کا استعمال صرف سیرامک ​​جھلی کی سطح پر لگے بڑے سائز کے آلودگیوں کو ہی صاف کر سکتا ہے۔ جھلی کے بہاؤ کی بحالی کا اثر اب بھی ضروریات کو پورا نہیں کر سکتا، اور مزید صفائی کے لیے کیمیائی صفائی کی ضرورت ہے۔

اصل تصدیق کے بعد، تیل والے گندے پانی کے علاج کے بعد آلودہ ہونے والی سیرامک ​​جھلیوں کے لیے، تیزابی صفائی والے سیال الکلائن اور مضبوط آکسیڈینٹ کلیننگ سیالوں سے بہتر صفائی کے اثرات رکھتے ہیں۔